Rumah > Produk > Lapisan Tantalum Karbida > Proses Epitaksi SiC > Penutup Lapisan Tantalum Karbida
Penutup Lapisan Tantalum Karbida
  • Penutup Lapisan Tantalum KarbidaPenutup Lapisan Tantalum Karbida

Penutup Lapisan Tantalum Karbida

VeTek Semiconductor adalah produsen dan inovator terkemuka Tantalum Carbide Coating Cover di Cina. Kami fokus pada penyediaan produk tantalum karbida dengan kemurnian tinggi dan tahan suhu tinggi. Penutup berlapis tantalum karbida kami memiliki kinerja dan keandalan yang sangat baik, dan dapat secara efektif melindungi material dalam suhu yang sangat tinggi dan lingkungan korosif. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

VeTek Semiconducto adalah produsen dan pemasok Penutup Lapisan Tantalum Karbida Tiongkok profesional. Penutup Lapisan Tantalum Karbida kami mewakili solusi terbaru dalam aplikasi termal untuk pertumbuhan kristal dan proses epitaksi (epi). Penutup unik yang dibuat dengan cermat ini merupakan komponen penting untuk mempertahankan pembentukan kristal dan deposisi film epitaksi.

Bahan inti Penutup Grafit Dilapisi TaC terbuat dari grafit berkualitas tinggi, yang dikenal dengan konduktivitas dan stabilitas termal yang sangat baik. Kemampuan grafit untuk menahan suhu ekstrem menjadikannya material yang ideal untuk aplikasi medan termal, memastikan umur panjang dan keandalan dalam lingkungan yang menuntut.

Fitur unik dari TaC Coated Graphite Cover adalah lapisan Tantalum Carbide (TaC) yang inovatif. Lapisan canggih ini meningkatkan kinerja penutup dengan menambahkan lapisan perlindungan yang kokoh dan meningkatkan ketahanannya terhadap korosi, keausan, dan guncangan termal. Lapisan TaC tidak hanya meningkatkan kekuatan penutup dalam kondisi yang keras, namun juga meningkatkan efisiensi dan memperpanjang masa pakainya.

Selama proses pertumbuhan kristal, Penutup Grafit Berlapis TaC memfasilitasi kontrol suhu yang tepat dan mendistribusikan panas secara merata, menciptakan lingkungan yang kondusif bagi pembentukan kristal berkualitas tinggi. Selain itu, kemampuan adaptasinya selama proses epitaksi memastikan deposisi film tipis terkontrol, yang sangat penting untuk aplikasi semikonduktor dan ilmu material.

Tutup grafit berlapis TaC yang dirancang dengan cermat ini sepenuhnya menunjukkan sinergi antara sifat bawaan grafit dan peningkatan kemampuan yang disediakan oleh lapisan TaC. Baik digunakan di laboratorium, lembaga penelitian, atau lingkungan industri, tutup grafit berlapis TaC adalah model inovasi teknologi termal, memberikan solusi yang andal dan tahan lama untuk pertumbuhan kristal dan proses epitaksi. VeTek Semiconductor akan terus berkomitmen untuk menyediakan solusi teknologi tercanggih dan dukungan komprehensif kepada pelanggan.


Parameter produk Penutup Lapisan Tantalum Carbide

Sifat fisik lapisan TaC
Kepadatan 14,3 (g/cm³)
Emisivitas spesifik 0.3
Koefisien ekspansi termal 6.3 10-6/K
Kekerasan (HK) 2000HK
Perlawanan 1×10-5 Ohm*cm
Stabilitas termal <2500℃
Perubahan ukuran grafit -10~-20um
Ketebalan lapisan Nilai tipikal ≥20um (35um±10um)


Toko Produksi Semikonduktor VeTek


Ikhtisar rantai industri epitaksi chip semikonduktor:


Tag Panas: Penutup Lapisan Tantalum Carbide, Cina, Produsen, Pemasok, Pabrik, Disesuaikan, Beli, Canggih, Tahan Lama, Buatan China
Kategori Terkait
mengirimkan permintaan
Jangan ragu untuk memberikan pertanyaan Anda dalam formulir di bawah ini. Kami akan membalas Anda dalam 24 jam.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept