Pelat Rotasi Lapisan TaC Semikonduktor VeTek menawarkan lapisan TaC yang luar biasa, Dengan lapisan TaC yang luar biasa, Pelat Rotasi Lapisan TaC memiliki ketahanan suhu tinggi dan kelembaman kimia yang luar biasa, yang membedakannya dari solusi tradisional. Kami berkomitmen untuk menyediakan produk berkualitas dengan daya saing harga dan berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.
Pelat Rotasi lapisan TaC Semikonduktor VeTek memiliki komposisi kemurnian tinggi, kandungan pengotor kurang dari 5ppm, dan struktur padat dan seragam, yang banyak digunakan dalam sistem LPE EPI, sistem Aixtron, sistem Nuflare, sistem TEL CVD, sistem VEECO, TSI sistem.
Sifat mekanik yang sangat baik:
Kekerasan lapisan hingga 2300HV, dengan ketahanan aus yang sangat baik.
Daya rekat antara lapisan dan substrat kuat, dan tidak mudah rontok atau terkelupas.
Lapisan tersebut masih dapat menjaga stabilitas struktur yang baik pada suhu tinggi.
Ketahanan korosi yang sangat baik:
Material TaC sendiri memiliki stabilitas kimia dan ketahanan korosi yang sangat baik.
Lapisan semikonduktor VeTek bekerja dengan baik di berbagai lingkungan gas yang agresif.
Dapat secara efektif melindungi komponen internal peralatan dari kerusakan korosi.
Permukaan akhir yang tinggi:
Semikonduktor VeTek menggunakan proses pelapisan yang presisi untuk menghasilkan hasil akhir yang diinginkan.
Kekasaran permukaan yang rendah membantu mengurangi akumulasi dan pengendapan partikel.
Konsistensi pelapisan bagus:
Semikonduktor VeTekmemiliki sistem kontrol kualitas suara untuk memastikan kinerja yang konsisten antar batch.
Ketebalan lapisan merata dan tidak ada cacat lokal yang terlihat jelas.
Performa aplikasi praktis yang luar biasa:
Lapisan TaC semikonduktor VeTek banyak digunakan di banyak produsen peralatan epitaksi terkenal di dalam dan luar negeri.
Sifat fisik lapisan TaC | |
Kepadatan | 14,3 (g/cm³) |
Emisivitas spesifik | 0.3 |
Koefisien ekspansi termal | 6.3 10-6/K |
Kekerasan (HK) | 2000HK |
Perlawanan | 1×10-5Ohm*cm |
Stabilitas termal | <2500℃ |
Perubahan ukuran grafit | -10~-20um |
Ketebalan lapisan | Nilai tipikal ≥20um (35um±10um) |