Pemanas Lapisan TaC

VeTek Semiconductor adalah produsen dan inovator TaC Coating Heater terkemuka di Cina. Produk ini memiliki titik leleh yang sangat tinggi (sekitar 3880°C). Titik leleh TaC Coating Heater yang tinggi memungkinkannya beroperasi pada suhu yang sangat tinggi, terutama pada pertumbuhan lapisan epitaksi galium nitrida (GaN) dalam proses pengendapan uap kimia organik logam (MOCVD). VeTek Semiconductor berkomitmen untuk menyediakan teknologi canggih dan solusi produk untuk industri semikonduktor. Kami berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

TaC Coating Heater adalah elemen pemanas berkinerja tinggi yang banyak digunakan dalam proses manufaktur semikonduktor. Permukaannya dilapisi dengan bahan tantalum karbida (TaC), yang memberikan pemanas ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan terhadap korosi kimia, dan konduktivitas termal yang sangat baik.

Aplikasi utama TaC Coating Heater dalam manufaktur semikonduktor meliputi:

Selama proses pertumbuhan epitaksi galium nitrida (GaN), TaC Coating Heater menyediakan lingkungan suhu tinggi yang dikontrol secara tepat untuk memastikan bahwa lapisan epitaksi diendapkan pada substrat dengan kecepatan yang seragam dan berkualitas tinggi. Keluaran panasnya yang stabil membantu mencapai kontrol yang tepat terhadap bahan film tipis, sehingga meningkatkan kinerja perangkat.

Selain itu, dalam proses pengendapan uap kimia organik logam (MOCVD), dikombinasikan dengan ketahanan suhu tinggi dan konduktivitas termal lapisan TaC, Pemanas Pelapis TaC biasanya digunakan untuk memanaskan gas reaksi, dan dengan menyediakan distribusi panas yang seragam, hal ini mendorong reaksi kimianya pada permukaan substrat, sehingga meningkatkan keseragaman lapisan epitaksial dan membentuk film berkualitas tinggi.

Sebagai pemimpin industri produk TaC Coating Heater, VeTek Semiconducto selalu mendukung layanan kustomisasi produk dan harga produk yang memuaskan. Apa pun kebutuhan spesifik Anda, kami akan mencocokkan solusi terbaik untuk kebutuhan Pemanas Lapisan TaC Anda, dan menantikan konsultasi Anda kapan saja.

Sifat fisik dasar dari TaC Coating Heater:

Sifat fisik lapisan TaC
Kepadatan	14,3 (g/cm³)
Emisivitas spesifik	0.3
Koefisien ekspansi termal	6.3 10-6/K
Kekerasan (HK)	2000HK
Perlawanan	1×10-5 Ohm*cm
Stabilitas termal	<2500℃
Perubahan ukuran grafit	-10~-20um
Ketebalan lapisan	Nilai tipikal ≥20um (35um±10um)