Cina Lapisan Silikon Karbida Produsen, Pemasok, Pabrik

VeTek Semiconductor mengkhususkan diri dalam produksi produk Lapisan Silikon Karbida ultra murni, lapisan ini dirancang untuk diterapkan pada komponen logam grafit, keramik, dan tahan api yang dimurnikan.

Pelapis dengan kemurnian tinggi kami terutama ditargetkan untuk digunakan dalam industri semikonduktor dan elektronik. Mereka berfungsi sebagai lapisan pelindung untuk pembawa wafer, susceptor, dan elemen pemanas, melindunginya dari lingkungan korosif dan reaktif yang ditemui dalam proses seperti MOCVD dan EPI. Proses-proses ini merupakan bagian integral dari pemrosesan wafer dan pembuatan perangkat. Selain itu, pelapis kami sangat cocok untuk aplikasi dalam tungku vakum dan pemanasan sampel, di mana terdapat lingkungan vakum, reaktif, dan oksigen tinggi.

Di VeTek Semiconductor, kami menawarkan solusi komprehensif dengan kemampuan bengkel mesin canggih kami. Hal ini memungkinkan kami memproduksi komponen dasar menggunakan grafit, keramik, atau logam tahan api dan menerapkan pelapis keramik SiC atau TaC sendiri. Kami juga menyediakan layanan pelapisan untuk suku cadang yang dipasok pelanggan, memastikan fleksibilitas untuk memenuhi beragam kebutuhan.

Produk Silicon Carbide Coating kami banyak digunakan pada epitaksi Si, epitaksi SiC, sistem MOCVD, proses RTP/RTA, proses etsa, proses etsa ICP/PSS, proses berbagai jenis LED, antara lain LED biru dan hijau, LED UV dan UV dalam. LED dll, yang disesuaikan dengan peralatan dari LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI dan sebagainya.

Bagian reaktor yang bisa kita lakukan:

Lapisan Silikon Karbida memiliki beberapa keunggulan unik:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Parameter Lapisan Silikon Karbida Semikonduktor VeTek:

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC
Milik	Nilai Khas
Struktur Kristal	Polikristalin fase β FCC, terutama berorientasi (111).
Kepadatan	3,21 gram/cm³
Kekerasan	Kekerasan Vickers 2500（beban 500g）
Ukuran Butir	2~10μm
Kemurnian Kimia	99,99995%
Kapasitas Panas	640 J·kg-1·K-1
Suhu Sublimasi	2700℃
Kekuatan Lentur	415 MPa RT 4 titik
Modulus Muda	tikungan 430 Gpa 4pt, 1300℃
Konduktivitas Termal	300W·m-1·K-1
Ekspansi Termal (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Tempat Barel Wafer Dilapisi CVD SiC

Wafer Barrel berlapis CVD SiC adalah komponen kunci tungku pertumbuhan epitaksi, banyak digunakan dalam tungku pertumbuhan epitaksi MOCVD. VeTek Semiconductor memberi Anda produk yang sangat disesuaikan. Apa pun kebutuhan Anda untuk tempat wafer Barel berlapis CVD SiC, Selamat datang untuk berkonsultasi dengan kami.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Suseptor barel pelapis CVD SiC

Susceptor barel pelapis CVD SiC VeTek Semiconductor adalah komponen inti dari tungku epitaksi tipe barel. Dengan bantuan susceptor barel pelapis CVD SiC, kuantitas dan kualitas pertumbuhan epitaksi sangat meningkat. VeTek Semiconductor adalah produsen dan pemasok profesional SiC Coated Barrel Susceptor, dan berada pada level terdepan di China dan bahkan di dunia. VeTek Semiconductor berharap dapat menjalin hubungan kerja sama yang erat dengan Anda di industri semikonduktor.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Susceptor Epi Wafer Lapisan CVD SiC

Wafer pelapis VeTek Semiconductor CVD SiC Epi susceptor adalah komponen yang sangat diperlukan untuk pertumbuhan epitaksi SiC, menawarkan manajemen termal yang unggul, ketahanan terhadap bahan kimia, dan stabilitas dimensi. Dengan memilih susceptor Epi wafer pelapis CVD SiC VeTek Semiconductor, Anda meningkatkan kinerja proses MOCVD Anda, menghasilkan produk berkualitas lebih tinggi dan efisiensi yang lebih besar dalam operasi manufaktur semikonduktor Anda. Selamat datang pertanyaan Anda lebih lanjut.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Suseptor grafit pelapis CVD SiC

Susceptor grafit pelapis VeTek Semiconductor CVD SiC merupakan salah satu komponen penting dalam industri semikonduktor seperti pertumbuhan epitaksi dan pemrosesan wafer. Ini digunakan di MOCVD dan peralatan lainnya untuk mendukung pemrosesan dan penanganan wafer dan bahan presisi tinggi lainnya. VeTek Semiconductor memiliki kemampuan produksi dan manufaktur susceptor grafit berlapis SiC dan Susceptor Grafit Berlapis TaC terkemuka di Tiongkok, dan menantikan konsultasi Anda.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Elemen Pemanas pelapis CVD SiC

Elemen Pemanas pelapis CVD SiC memainkan peran inti dalam bahan pemanas di tungku PVD (Deposisi Evaporasi). VeTek Semiconductor adalah produsen Elemen Pemanas berlapis CVD SiC terkemuka di Cina. Kami memiliki kemampuan pelapisan CVD yang canggih dan dapat memberi Anda produk pelapisan CVD SiC yang disesuaikan. VeTek Semiconductor berharap dapat menjadi mitra Anda dalam Elemen Pemanas berlapis SiC.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

Penerima Berputar Grafit

Susceptor berputar grafit dengan kemurnian tinggi memainkan peran penting dalam pertumbuhan epitaksi galium nitrida (proses MOCVD). VeTek Semiconductor adalah produsen dan pemasok susceptor berputar grafit terkemuka di Cina. Kami telah mengembangkan banyak produk grafit dengan kemurnian tinggi berdasarkan bahan grafit dengan kemurnian tinggi, yang sepenuhnya memenuhi persyaratan industri semikonduktor. VeTek Semiconductor berharap dapat menjadi mitra Anda dalam Rotating Graphite susceptor.

Baca selengkapnya mengirimkan permintaan

<1 2 3 4 5...15 >

Sebagai produsen dan pemasok Lapisan Silikon Karbida profesional di Tiongkok, kami memiliki pabrik sendiri. Apakah Anda memerlukan layanan khusus untuk memenuhi kebutuhan spesifik wilayah Anda atau ingin membeli Lapisan Silikon Karbida canggih dan tahan lama buatan Tiongkok, Anda dapat meninggalkan pesan kepada kami.