Suseptor ALD pelapis SiC

Semikonduktor VeTekSuseptor ALD pelapis SiCmemainkan peran penting dalam pengendapan lapisan atom (ALD) proses. Kontrol suhu yang tepat, distribusi gas yang seragam, ketahanan kimia yang tinggi, dan konduktivitas termal yang sangat baik memastikan keseragaman dan kualitas tinggi dari proses pengendapan film. Jika Anda ingin tahu lebih banyak, Anda dapat segera berkonsultasi dengan kami dan kami akan membalas Anda tepat waktu!

Kontrol suhu yang tepat:

Susceptor ALD pelapis SiC biasanya memiliki sistem kontrol suhu presisi tinggi. Ia mampu menjaga suhu lingkungan yang seragam selama proses pengendapan, yang sangat penting untuk menjamin keseragaman dan kualitas film.

Distribusi gas seragam:

Desain suseptor ALD lapisan SiC yang dioptimalkan memastikan distribusi gas yang seragam selama proses pengendapan ALD. Strukturnya biasanya mencakup beberapa bagian yang berputar atau bergerak untuk mendorong cakupan gas reaktif yang seragam di seluruh permukaan wafer.

Ketahanan kimia yang tinggi:

Karena proses ALD melibatkan berbagai gas kimia, suseptor ALD pelapis SiC biasanya terbuat dari bahan tahan korosi (seperti platina, keramik, atau kuarsa dengan kemurnian tinggi) untuk menahan erosi gas kimia dan pengaruh lingkungan bersuhu tinggi.

Konduktivitas termal yang sangat baik:

Untuk menghantarkan panas secara efektif dan mempertahankan suhu pengendapan yang stabil, susceptor ALD pelapis SiC biasanya menggunakan bahan dengan konduktivitas termal yang tinggi. Hal ini membantu menghindari panas berlebih lokal dan pengendapan yang tidak merata.

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC:

Toko produksi:

Tinjauan umum rantai industri epitaksi chip semikonduktor：