Reseptor ALD

VeTek Semiconductor adalah produsen profesional ALD Susceptor, lapisan CVD SiC, basis grafit CVD TAC COATING di Cina. Vetek Semiconductor bersama-sama mengembangkan dan memproduksi pangkalan planet ALD berlapis SiC dengan produsen sistem ALD untuk memenuhi persyaratan tinggi proses ALD dan mendistribusikan aliran udara pada substrat secara merata. Kami menantikan kerjasama lebih lanjut dengan Anda.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Sebagai seorang profesionalPenerima ALDprodusen di Cina, produk kamiPenerima ALDKontrol suhu yang tepat, distribusi gas yang seragam, dan konduktivitas termal yang sangat baik serta karakteristik produk lainnya menentukan hal tersebutPenerima ALDmemainkan peran penting dalam proses pengendapan lapisan atom (ALD). Peran penting, selamat datang konsultasi Anda.

Deposisi film tipis seragam:ALD Susceptor memastikan deposisi lapisan atom yang seragam di seluruh permukaan wafer selama proses deposisi lapisan atom (ALD). Desain putarannya yang unik memungkinkan gas dan reaktan bersentuhan secara merata dengan permukaan wafer, sehingga menghasilkan ketebalan film yang seragam. Ini penting untuk manufaktur semikonduktor presisi tinggi.

Meningkatkan kualitas pengendapan: Dengan mengoptimalkan kontrol suhu dan distribusi gas, ALD Susceptor secara signifikan meningkatkan kualitas dan kinerja film, mengurangi cacat dan ketidakseragaman. Hal ini membuatnya ideal untuk manufaktur semikonduktor dan perangkat elektronik presisi tinggi, memastikan keandalan dan kinerja produk.

Mendukung pemrosesan multi-wafer:Desain Susceptor ALD tertentu memungkinkan beberapa wafer diproses secara bersamaan, sehingga meningkatkan efisiensi produksi. Hal ini sangat penting terutama untuk lingkungan manufaktur dengan throughput tinggi, yang mampu memenuhi kebutuhan produksi skala besar.

Mengakomodasi berbagai ukuran dan jenis wafer:Susceptor ALD umumnya dirancang untuk kompatibilitas tinggi dan dapat mendukung berbagai ukuran dan jenis wafer. Hal ini membuatnya efektif dalam berbagai proses produksi, memberikan fleksibilitas dan kemampuan beradaptasi yang lebih besar.

Mengurangi biaya produksi:Karena distribusi gas yang efisien dan kemampuan pemanasan yang seragam, ALD Susceptor meningkatkan efisiensi proses pengendapan, sehingga mengurangi limbah material dan biaya produksi. Hal ini tidak hanya membantu meningkatkan efisiensi produksi tetapi juga mengurangi biaya produksi secara signifikan.

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC: