Apa itu Lapisan TaC?

Lapisan TaC (Tantalum Carbide Coating) adalah bahan pelapis berkinerja tinggi yang dihasilkan melalui proses deposisi uap kimia (CVD). Karena sifat lapisan TaC yang sangat baik dalam kondisi ekstrim, lapisan ini banyak digunakan dalam proses pembuatan semikonduktor, terutama pada peralatan dan komponen yang memerlukan suhu tinggi dan lingkungan korosif yang kuat. Lapisan TaC biasanya digunakan untuk melindungi substrat (seperti grafit atau keramik) dari kerusakan akibat suhu tinggi, gas korosif, dan keausan mekanis.

Fitur dan Keunggulan Produk

Stabilitas termal yang sangat tinggi:

Deskripsi fitur: Lapisan TaC memiliki titik leleh lebih dari 3880°C dan dapat menjaga stabilitas tanpa dekomposisi atau deformasi di lingkungan bersuhu sangat tinggi.

Keuntungan: Hal ini menjadikannya bahan yang sangat diperlukan dalam peralatan semikonduktor suhu tinggi seperti CVD TaC Coating dan TaC Coated Susceptor, terutama untuk aplikasi dalam reaktor MOCVD, seperti peralatan Aixtron G5.

Ketahanan korosi yang sangat baik:

Deskripsi fitur: TaC memiliki kelembaman kimia yang sangat kuat dan secara efektif dapat menahan erosi gas korosif seperti klorida dan fluorida.

Keuntungan: Dalam proses semikonduktor yang melibatkan bahan kimia yang sangat korosif, Lapisan TaC melindungi komponen peralatan dari serangan bahan kimia, memperpanjang masa pakai dan meningkatkan stabilitas proses, terutama dalam penerapan Silicon Carbide Wafer Boat dan komponen penting lainnya.

Kekerasan mekanis yang sangat baik:

Deskripsi fitur: Kekerasan lapisan TaC mencapai 9-10 Mohs, yang membuatnya tahan terhadap keausan mekanis dan tekanan suhu tinggi.

Keuntungan: Sifat kekerasan yang tinggi membuat TaC Coating sangat cocok untuk digunakan di lingkungan dengan keausan tinggi dan tekanan tinggi, memastikan stabilitas jangka panjang dan keandalan peralatan dalam kondisi yang keras.

Reaktivitas kimia rendah:

Deskripsi fitur: Karena kelembaman kimianya, Lapisan TaC dapat mempertahankan reaktivitas rendah di lingkungan bersuhu tinggi dan menghindari reaksi kimia yang tidak perlu dengan gas reaktif.

Keuntungan: Hal ini sangat penting dalam proses manufaktur semikonduktor karena menjamin kemurnian lingkungan proses dan pengendapan material berkualitas tinggi.

Peran Lapisan TaC dalam pemrosesan semikonduktor

Melindungi komponen peralatan utama:

Deskripsi fungsi: Pelapisan TaC banyak digunakan pada komponen utama peralatan manufaktur semikonduktor, seperti TaC Coated Susceptor, yang perlu bekerja dalam kondisi ekstrem. Dengan dilapisi TaC, komponen ini dapat beroperasi dalam jangka waktu lama di lingkungan bersuhu tinggi dan gas korosif tanpa mengalami kerusakan.

Memperpanjang umur peralatan:

Deskripsi fungsi: Pada peralatan MOCVD seperti Aixtron G5, TaC Coating dapat meningkatkan ketahanan komponen peralatan secara signifikan dan mengurangi kebutuhan pemeliharaan dan penggantian peralatan akibat korosi dan keausan.

Meningkatkan stabilitas proses:

Deskripsi fungsi: Dalam manufaktur semikonduktor, Pelapisan TaC memastikan keseragaman dan konsistensi proses pengendapan dengan menyediakan suhu tinggi dan lingkungan kimia yang stabil. Hal ini sangat penting dalam proses pertumbuhan epitaksi seperti silikon epitaksi dan galium nitrida (GaN).

Meningkatkan efisiensi proses:

Deskripsi fungsi: Dengan mengoptimalkan lapisan pada permukaan peralatan, TaC Coating dapat meningkatkan efisiensi proses secara keseluruhan, mengurangi tingkat kerusakan, dan meningkatkan hasil produk. Hal ini penting untuk pembuatan bahan semikonduktor dengan presisi tinggi dan kemurnian tinggi.

Stabilitas termal yang tinggi, ketahanan korosi yang sangat baik, kekerasan mekanis, dan reaktivitas kimia rendah yang ditunjukkan oleh Lapisan TaC selama pemrosesan semikonduktor menjadikannya pilihan ideal untuk melindungi komponen peralatan manufaktur semikonduktor. Karena permintaan industri semikonduktor akan suhu tinggi, kemurnian tinggi, dan proses manufaktur yang efisien terus meningkat, TaC Coating memiliki prospek penerapan yang luas, terutama pada peralatan dan proses yang melibatkan CVD TaC Coating, TaC Coated Susceptor, dan Aixtron G5.

VeTek semiconductor Technology Co., LTD adalah penyedia terkemuka bahan pelapis canggih untuk industri semikonduktor. perusahaan kami fokus pada pengembangan solusi mutakhir untuk industri.

Penawaran produk utama kami meliputi pelapis silikon karbida (SiC) CVD, pelapis tantalum karbida (TaC), SiC curah, bubuk SiC, dan bahan SiC dengan kemurnian tinggi, susceptor grafit berlapis SiC, cincin pemanasan awal, cincin pengalih berlapis TaC, suku cadang setengah bulan, dll. ., kemurniannya di bawah 5ppm, dapat memenuhi kebutuhan pelanggan.

Semikonduktor VeTek fokus pada pengembangan teknologi mutakhir dan solusi pengembangan produk untuk industri semikonduktor.Kami sangat berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.