Tahukah Anda tentang Penerima MOCVD?

Dalam proses pengendapan uap kimia logam-organik (MOCVD), suceptor adalah komponen kunci yang bertanggung jawab untuk mendukung wafer dan memastikan keseragaman dan kontrol yang tepat dari proses pengendapan. Pemilihan material dan karakteristik produk secara langsung mempengaruhi stabilitas proses epitaksi dan kualitas produk.

Penerima MOCVD(Deposisi Uap Kimia Logam-Organik) adalah komponen proses utama dalam manufaktur semikonduktor. Hal ini terutama digunakan dalam proses MOCVD (Deposisi Uap Kimia Logam-Organik) untuk mendukung dan memanaskan wafer untuk pengendapan film tipis. Desain dan pemilihan bahan pengganti sangat penting untuk keseragaman, efisiensi dan kualitas produk akhir.

Jenis Produk dan Pemilihan Bahan:

Desain dan pemilihan material MOCVD Susceptor beragam, biasanya ditentukan oleh persyaratan proses dan kondisi reaksi.Berikut ini adalah jenis produk umum dan bahannya:

Suseptor Berlapis SiC(Susceptor Dilapisi Silikon Karbida):

Deskripsi: Susceptor dengan lapisan SiC, dengan grafit atau bahan bersuhu tinggi lainnya sebagai substrat, dan lapisan CVD SiC (CVD SiC Coating) di permukaan untuk meningkatkan ketahanan aus dan ketahanan korosi.

Aplikasi: Banyak digunakan dalam proses MOCVD di lingkungan gas bersuhu tinggi dan sangat korosif, terutama dalam epitaksi silikon dan deposisi semikonduktor senyawa.

Suseptor Berlapis TaC:

Deskripsi: Susceptor dengan lapisan TaC (CVD TaC Coating) sebagai bahan utamanya memiliki kekerasan dan stabilitas kimia yang sangat tinggi serta cocok untuk digunakan di lingkungan yang sangat korosif.

Aplikasi: Digunakan dalam proses MOCVD yang memerlukan ketahanan korosi dan kekuatan mekanik yang lebih tinggi, seperti pengendapan galium nitrida (GaN) dan galium arsenida (GaAs).

Susceptor Grafit Berlapis Silikon Karbida untuk MOCVD:

Deskripsi: Substratnya terbuat dari grafit, dan permukaannya dilapisi dengan lapisan lapisan CVD SiC untuk memastikan stabilitas dan umur panjang pada suhu tinggi.

Aplikasi: Cocok untuk digunakan pada peralatan seperti reaktor Aixtron MOCVD untuk memproduksi bahan semikonduktor senyawa berkualitas tinggi.

Reseptor EPI (Reseptor Epitaksis):

Deskripsi: Susceptor dirancang khusus untuk proses pertumbuhan epitaksi, biasanya dengan Lapisan SiC atau Lapisan TaC untuk meningkatkan konduktivitas termal dan daya tahannya.

Aplikasi: Dalam epitaksi silikon dan epitaksi semikonduktor majemuk, digunakan untuk memastikan pemanasan dan pengendapan wafer yang seragam.

Peran utama Susceptor untuk MOCVD dalam pemrosesan semikonduktor:

Dukungan wafer dan pemanasan seragam:

Fungsi: Susceptor digunakan untuk mendukung wafer dalam reaktor MOCVD dan menyediakan distribusi panas yang seragam melalui pemanasan induksi atau metode lain untuk memastikan deposisi film yang seragam.

Konduksi panas dan stabilitas:

Fungsi: Konduktivitas termal dan stabilitas termal bahan Susceptor sangat penting. Susceptor Berlapis SiC dan Susceptor Berlapis TaC dapat menjaga stabilitas dalam proses suhu tinggi karena konduktivitas termal yang tinggi dan ketahanan suhu tinggi, menghindari cacat film yang disebabkan oleh suhu yang tidak merata.

Ketahanan korosi dan umur panjang:

Fungsi: Dalam proses MOCVD, Susceptor terkena berbagai gas kimia prekursor. Lapisan SiC dan Lapisan TaC memberikan ketahanan terhadap korosi yang sangat baik, mengurangi interaksi antara permukaan material dan gas reaksi, dan memperpanjang masa pakai Susceptor.

Optimalisasi lingkungan reaksi:

Fungsi: Dengan menggunakan Susceptor berkualitas tinggi, aliran gas dan medan suhu dalam reaktor MOCVD dioptimalkan, memastikan proses pengendapan film yang seragam dan meningkatkan hasil dan kinerja perangkat. Biasanya digunakan pada Susceptors untuk Reaktor MOCVD dan peralatan Aixtron MOCVD.

Fitur Produk dan Keunggulan Teknis：

Konduktivitas termal yang tinggi dan stabilitas termal:

Fitur: Susceptor berlapis SiC dan TaC memiliki konduktivitas termal yang sangat tinggi, dapat mendistribusikan panas dengan cepat dan merata, dan menjaga stabilitas struktural pada suhu tinggi untuk memastikan pemanasan wafer yang seragam.

Keuntungan: Cocok untuk proses MOCVD yang memerlukan kontrol suhu yang tepat, seperti pertumbuhan epitaksi senyawa semikonduktor seperti galium nitrida (GaN) dan galium arsenida (GaAs).

Ketahanan korosi yang sangat baik:

Fitur: Lapisan SiC CVD dan Lapisan TaC CVD memiliki kelembaman kimia yang sangat tinggi dan dapat menahan korosi dari gas yang sangat korosif seperti klorida dan fluorida, sehingga melindungi substrat Susceptor dari kerusakan.

Keuntungan: Memperpanjang masa pakai Susceptor, mengurangi frekuensi perawatan, dan meningkatkan efisiensi proses MOCVD secara keseluruhan.

Kekuatan dan kekerasan mekanik yang tinggi:

Fitur: Kekerasan tinggi dan kekuatan mekanik lapisan SiC dan TaC memungkinkan Susceptor menahan tekanan mekanis di lingkungan bersuhu tinggi dan bertekanan tinggi serta menjaga stabilitas dan presisi jangka panjang.

Keuntungan: Sangat cocok untuk proses manufaktur semikonduktor yang memerlukan presisi tinggi, seperti pertumbuhan epitaksi dan pengendapan uap kimia.

Penerapan Pasar dan Prospek Pengembangan

Penerima MOCVDbanyak digunakan dalam pembuatan LED kecerahan tinggi, perangkat elektronik daya (seperti HEMT berbasis GaN), sel surya, dan perangkat optoelektronik lainnya. Dengan meningkatnya permintaan akan perangkat semikonduktor berkinerja lebih tinggi dan konsumsi daya lebih rendah, teknologi MOCVD terus maju, mendorong inovasi dalam bahan dan desain Susceptor. Misalnya, mengembangkan teknologi pelapisan SiC dengan kemurnian lebih tinggi dan kepadatan cacat lebih rendah, serta mengoptimalkan desain struktural Susceptor untuk beradaptasi dengan wafer yang lebih besar dan proses epitaksi multi-lapis yang lebih kompleks.

VeTek semiconductor Technology Co., LTD adalah penyedia terkemuka bahan pelapis canggih untuk industri semikonduktor. perusahaan kami fokus pada pengembangan solusi mutakhir untuk industri.

Penawaran produk utama kami meliputi pelapis silikon karbida (SiC) CVD, pelapis tantalum karbida (TaC), SiC curah, bubuk SiC, dan bahan SiC dengan kemurnian tinggi, susceptor grafit berlapis SiC, cincin pemanasan awal, cincin pengalih berlapis TaC, suku cadang setengah bulan, dll. ., kemurniannya di bawah 5ppm, dapat memenuhi kebutuhan pelanggan.

Semikonduktor VeTek fokus pada pengembangan teknologi mutakhir dan solusi pengembangan produk untuk industri semikonduktor. Kami sangat berharap dapat menjadi mitra jangka panjang Anda di Tiongkok.