> Berita

Berita

Wafer substrat semikonduktor: Sifat material silikon, GaAs, SiC dan GaN

Artikel ini menganalisis sifat material wafer substrat semikonduktor seperti silikon, GaAs, SiC dan GaN

Teknologi epitaksi suhu rendah berbasis GaN

Artikel ini terutama menjelaskan teknologi epitaksi suhu rendah berbasis GaN, termasuk struktur kristal bahan berbasis GaN, 3. persyaratan teknologi epitaksi dan solusi implementasi, keunggulan teknologi epitaksi suhu rendah berdasarkan prinsip PVD, dan prospek pengembangan teknologi epitaksi suhu r......

Baca selengkapnya

Apa perbedaan antara CVD TaC dan TaC sinter?

Artikel ini pertama kali memperkenalkan struktur molekul dan sifat fisik TaC, dan berfokus pada perbedaan dan aplikasi tantalum karbida sinter dan tantalum karbida CVD, serta produk pelapis TaC VeTek Semiconductor yang populer.

Baca selengkapnya

Bagaimana cara menyiapkan pelapis CVD TaC?

Artikel ini memperkenalkan karakteristik produk pelapisan CVD TaC, proses pembuatan pelapisan CVD TaC menggunakan metode CVD, dan metode dasar deteksi morfologi permukaan pelapisan CVD TaC yang disiapkan.

Baca selengkapnya

Apa itu Lapisan Tantalum Karbida?

Artikel ini memperkenalkan karakteristik produk pelapisan TaC, proses spesifik pembuatan produk pelapisan TaC menggunakan proses CVD, dan memperkenalkan pelapisan TaC paling populer dari VeTek Semiconductor.

Baca selengkapnya

Mengapa lapisan SiC merupakan bahan inti utama untuk pertumbuhan epitaksi SiC?

Artikel ini menganalisis alasan mengapa pelapisan SiC merupakan bahan inti utama untuk pertumbuhan epitaksi SiC dan berfokus pada keunggulan spesifik pelapisan SiC dalam industri semikonduktor.

Baca selengkapnya

<...3 4 5 6 7...10 >