Dalam industri manufaktur semikonduktor, seiring dengan menyusutnya ukuran perangkat, teknologi pengendapan bahan film tipis telah menimbulkan tantangan yang belum pernah terjadi sebelumnya. Atomic Layer Deposition (ALD), sebagai teknologi deposisi film tipis yang dapat mencapai kontrol presisi pada......
Baca selengkapnyaSangat ideal untuk membangun sirkuit terpadu atau perangkat semikonduktor pada lapisan dasar kristal yang sempurna. Proses epitaksi (epi) dalam pembuatan semikonduktor bertujuan untuk mendepositkan lapisan kristal tunggal yang halus, biasanya sekitar 0,5 hingga 20 mikron, pada substrat kristal tungg......
Baca selengkapnyaPerbedaan utama antara epitaksi dan deposisi lapisan atom (ALD) terletak pada mekanisme pertumbuhan film dan kondisi pengoperasiannya. Epitaksi mengacu pada proses menumbuhkan film tipis kristal pada substrat kristal dengan hubungan orientasi tertentu, mempertahankan struktur kristal yang sama atau ......
Baca selengkapnyaPelapisan CVD TAC merupakan proses pembentukan lapisan padat dan tahan lama pada substrat (grafit). Metode ini melibatkan pengendapan TaC ke permukaan substrat pada suhu tinggi, menghasilkan lapisan tantalum karbida (TaC) dengan stabilitas termal dan ketahanan kimia yang sangat baik.
Baca selengkapnya