CVD SiC adalah bahan silikon karbida dengan kemurnian tinggi yang diproduksi melalui pengendapan uap kimia. Hal ini terutama digunakan untuk berbagai komponen dan pelapis pada peralatan pemrosesan semikonduktor. Konten berikut adalah pengenalan klasifikasi produk dan fungsi inti CVD SiC
Baca selengkapnyaDalam industri manufaktur semikonduktor, seiring dengan menyusutnya ukuran perangkat, teknologi pengendapan bahan film tipis telah menimbulkan tantangan yang belum pernah terjadi sebelumnya. Atomic Layer Deposition (ALD), sebagai teknologi deposisi film tipis yang dapat mencapai kontrol presisi pada......
Baca selengkapnyaSangat ideal untuk membangun sirkuit terpadu atau perangkat semikonduktor pada lapisan dasar kristal yang sempurna. Proses epitaksi (epi) dalam pembuatan semikonduktor bertujuan untuk mendepositkan lapisan kristal tunggal yang halus, biasanya sekitar 0,5 hingga 20 mikron, pada substrat kristal tungg......
Baca selengkapnya