Silinder Grafit SiC CVD

Silinder Grafit SiC CVD Semikonduktor Vetek sangat penting dalam peralatan semikonduktor, berfungsi sebagai pelindung di dalam reaktor untuk melindungi komponen internal dalam pengaturan suhu dan tekanan tinggi. Ini secara efektif melindungi terhadap bahan kimia dan panas ekstrem, menjaga integritas peralatan. Dengan ketahanan aus dan korosi yang luar biasa, produk ini menjamin umur panjang dan stabilitas di lingkungan yang menantang. Memanfaatkan penutup ini akan meningkatkan kinerja perangkat semikonduktor, memperpanjang masa pakai, dan mengurangi persyaratan pemeliharaan dan risiko kerusakan. Selamat datang untuk bertanya kepada kami.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Silinder Grafit SiC CVD Semikonduktor Vetek memainkan peran penting dalam peralatan semikonduktor. Biasanya digunakan sebagai penutup pelindung di dalam reaktor untuk memberikan perlindungan bagi komponen internal reaktor di lingkungan bersuhu tinggi dan bertekanan tinggi. Penutup pelindung ini dapat secara efektif mengisolasi bahan kimia dan suhu tinggi di dalam reaktor, mencegahnya menyebabkan kerusakan pada peralatan. Pada saat yang sama, Silinder Grafit SiC CVD juga memiliki ketahanan aus dan korosi yang sangat baik, sehingga mampu menjaga stabilitas dan daya tahan jangka panjang di lingkungan kerja yang keras. Dengan menggunakan penutup pelindung yang terbuat dari bahan ini, kinerja dan keandalan perangkat semikonduktor dapat ditingkatkan, sehingga memperpanjang masa pakai perangkat sekaligus mengurangi kebutuhan pemeliharaan dan risiko kerusakan.

Silinder Grafit SiC CVD memiliki beragam aplikasi pada peralatan semikonduktor, termasuk namun tidak terbatas pada aspek berikut:

Peralatan perlakuan panas: Silinder Grafit SiC CVD dapat digunakan sebagai penutup pelindung atau pelindung panas pada peralatan perlakuan panas untuk melindungi komponen internal dari suhu tinggi sekaligus memberikan ketahanan suhu tinggi yang sangat baik.

Reaktor Deposisi Uap Kimia (CVD): Dalam reaktor CVD, Silinder Grafit SiC CVD dapat digunakan sebagai penutup pelindung ruang reaksi kimia, secara efektif mengisolasi zat reaksi dan memberikan ketahanan terhadap korosi.

Aplikasi di lingkungan korosif: Karena ketahanan terhadap korosi yang sangat baik, CVD SiC Graphite Cylinder dapat digunakan di lingkungan yang terkorosi secara kimia, seperti lingkungan gas atau cairan korosif selama pembuatan semikonduktor.

Peralatan pertumbuhan semikonduktor: Penutup pelindung atau komponen lain yang digunakan dalam peralatan pertumbuhan semikonduktor untuk melindungi peralatan dari suhu tinggi, korosi kimia, dan keausan untuk memastikan stabilitas peralatan dan keandalan jangka panjang.

Stabilitas suhu tinggi, ketahanan terhadap korosi, sifat mekanik yang sangat baik, konduktivitas termal. Dengan kinerja luar biasa ini, membantu menghilangkan panas dengan lebih efisien pada perangkat semikonduktor, menjaga stabilitas dan kinerja perangkat.

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC:

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC
Milik	Nilai Khas
Struktur Kristal	Polikristalin fase β FCC, terutama berorientasi (111).
Kepadatan	3,21 gram/cm³
Kekerasan	Kekerasan Vickers 2500（beban 500g）
Ukuran Butir	2~10μm
Kemurnian Kimia	99,99995%
Kapasitas Panas	640 J·kg-1·K-1
Suhu Sublimasi	2700℃
Kekuatan Lentur	415 MPa RT 4 titik
Modulus Muda	tikungan 430 Gpa 4pt, 1300℃
Konduktivitas Termal	300W·m-1·K-1
Ekspansi Termal (CTE)	4,5×10-6K-1