VeTek Semiconductor adalah produsen dan pemasok profesional, yang berdedikasi untuk menyediakan susceptor Grafit Epitaksial GaN Untuk G5 berkualitas tinggi. kami telah menjalin kemitraan jangka panjang dan stabil dengan banyak perusahaan terkenal di dalam dan luar negeri, mendapatkan kepercayaan dan rasa hormat dari pelanggan kami.
VeTek Semiconductor adalah susceptor Grafit Epitaxial GaN China profesional untuk produsen dan pemasok G5. Susceptor Grafit Epitaxial GaN Untuk G5 adalah komponen penting yang digunakan dalam sistem pengendapan uap kimia logam-organik (MOCVD) Aixtron G5 untuk pertumbuhan film tipis galium nitrida (GaN) berkualitas tinggi, ini memainkan peran penting dalam memastikan suhu seragam distribusi, perpindahan panas yang efisien, dan kontaminasi minimal selama proses pertumbuhan.
-Kemurnian tinggi: Susceptor terbuat dari grafit yang sangat murni dengan lapisan CVD, meminimalkan kontaminasi pada film GaN yang sedang tumbuh.
-Konduktivitas termal yang sangat baik: Konduktivitas termal grafit yang tinggi (150-300 W/(m·K)) memastikan distribusi suhu yang seragam di seluruh susceptor, sehingga menghasilkan pertumbuhan film GaN yang konsisten.
-Ekspansi termal rendah: Koefisien ekspansi termal susceptor yang rendah meminimalkan tekanan termal dan keretakan selama proses pertumbuhan suhu tinggi.
-Kelembaman kimia: Grafit bersifat inert secara kimia dan tidak bereaksi dengan prekursor GaN, mencegah pengotor yang tidak diinginkan pada film yang ditumbuhkan.
-Kompatibilitas dengan Aixtron G5: Susceptor dirancang khusus untuk digunakan dalam sistem MOCVD Aixtron G5, memastikan kesesuaian dan fungsionalitas yang tepat.
LED dengan kecerahan tinggi: LED berbasis GaN menawarkan efisiensi tinggi dan masa pakai yang lama, menjadikannya ideal untuk penerangan umum, penerangan otomotif, dan aplikasi tampilan.
Transistor berdaya tinggi: Transistor GaN menawarkan kinerja unggul dalam hal kepadatan daya, efisiensi, dan kecepatan peralihan, sehingga cocok untuk aplikasi elektronika daya.
Dioda laser: Dioda laser berbasis GaN menawarkan efisiensi tinggi dan panjang gelombang pendek, menjadikannya ideal untuk penyimpanan optik dan aplikasi komunikasi.
Sifat fisik grafit isostatik | ||
Properti | Satuan | Nilai khas |
Kepadatan Massal | gram/cm³ | 1.83 |
Kekerasan | HSD | 58 |
Resistivitas Listrik | ibu.m | 10 |
Kekuatan Lentur | MPa | 47 |
Kekuatan Tekan | MPa | 103 |
Daya tarik | MPa | 31 |
Modulus Muda | IPK | 11.8 |
Ekspansi Termal (CTE) | 10-6K-1 | 4.6 |
Konduktivitas termal | W·m-1·K-1 | 130 |
Ukuran Butir Rata-rata | m | 8-10 |
Porositas | % | 10 |
Kandungan Abu | ppm | ≤10 (setelah dimurnikan) |
Catatan: Sebelum pelapisan akan dilakukan pemurnian terlebih dahulu, setelah pelapisan akan dilakukan pemurnian kedua.
Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC | |
Properti | Nilai khas |
Struktur kristal | Polikristalin fase β FCC, terutama berorientasi (111). |
Kepadatan | 3,21 gram/cm³ |
Kekerasan | Kekerasan Vickers 2500(beban 500g) |
Ukuran butir | 2~10μm |
Kemurnian Kimia | 99,99995% |
Kapasitas Panas | 640 J·kg-1·K-1 |
Suhu Sublimasi | 2700℃ |
Kekuatan Lentur | 415 MPa RT 4 titik |
Modulus Muda | tikungan 430 Gpa 4pt, 1300℃ |
Konduktivitas termal | 300W·m-1·K-1 |
Ekspansi Termal (CTE) | 4,5×10-6K-1 |