Cincin Fokus CVD SiC

VeTek Semiconductor adalah produsen dan pemasok cincin fokus CVD SiC dalam negeri terkemuka, yang berdedikasi untuk menyediakan solusi produk berkinerja tinggi dan keandalan tinggi untuk industri semikonduktor. Cincin fokus CVD SiC VeTek Semiconductor menggunakan teknologi deposisi uap kimia (CVD) yang canggih, memiliki ketahanan suhu tinggi yang sangat baik, ketahanan korosi dan konduktivitas termal, dan banyak digunakan dalam proses litografi semikonduktor. Pertanyaan Anda selalu diterima.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Sebagai landasan perangkat elektronik modern dan teknologi informasi, teknologi semikonduktor telah menjadi bagian tak terpisahkan dari masyarakat saat ini. Dari ponsel pintar hingga komputer, peralatan komunikasi, peralatan medis, dan sel surya, hampir semua teknologi modern bergantung pada pembuatan dan penerapan perangkat semikonduktor.

Seiring dengan meningkatnya persyaratan untuk integrasi fungsional dan kinerja perangkat elektronik, teknologi proses semikonduktor juga terus berkembang dan meningkat. Sebagai penghubung inti dalam teknologi semikonduktor, proses etsa secara langsung menentukan struktur dan karakteristik perangkat.

Proses etsa digunakan untuk menghilangkan atau mengatur material pada permukaan semikonduktor secara akurat untuk membentuk struktur dan pola sirkuit yang diinginkan. Struktur ini menentukan kinerja dan fungsionalitas perangkat semikonduktor. Proses etsa mampu mencapai presisi tingkat nanometer, yang merupakan dasar untuk pembuatan sirkuit terpadu (IC) dengan kepadatan tinggi dan berkinerja tinggi.

CVD SiC Focus Ring adalah komponen inti dalam etsa kering, terutama digunakan untuk memfokuskan plasma agar memiliki kepadatan dan energi lebih tinggi pada permukaan wafer. Ini memiliki fungsi mendistribusikan gas secara merata. VeTek Semiconductor mengembangkan SiC lapis demi lapis melalui proses CVD dan akhirnya memperoleh CVD SiC Focus Ring. Cincin Fokus SiC CVD yang disiapkan dapat memenuhi persyaratan proses etsa dengan sempurna.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC Focus Ring sangat baik dalam sifat mekanik, sifat kimia, konduktivitas termal, ketahanan suhu tinggi, ketahanan etsa ion, dll.

● Kepadatan tinggi mengurangi volume etsa

● Celah pita yang tinggi dan isolasi yang sangat baik

● Konduktivitas termal yang tinggi, koefisien muai yang rendah, dan ketahanan terhadap guncangan panas

● Elastisitas tinggi dan ketahanan benturan mekanis yang baik

● Kekerasan tinggi, ketahanan aus, dan ketahanan korosi

Semikonduktor VeTekmemiliki kemampuan pemrosesan CVD SiC Focus Ring yang terdepan di Tiongkok. Sementara itu, tim teknis dan tim penjualan VeTek Semiconductor yang matang membantu kami menyediakan produk cincin fokus yang paling sesuai kepada pelanggan. Memilih semikonduktor VeTek berarti bermitra dengan perusahaan yang berkomitmen untuk mendobrak batasansilikon karbida CVD inovasi.

Dengan penekanan kuat pada kualitas, kinerja, dan kepuasan pelanggan, kami memberikan produk yang tidak hanya memenuhi namun melampaui tuntutan ketat industri semikonduktor. Biarkan kami membantu Anda mencapai efisiensi, keandalan, dan kesuksesan yang lebih besar dalam operasi Anda dengan solusi silikon Karbida CVD kami yang canggih.

DATA SEM FILM CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC

Sifat fisik dasar lapisan CVD SiC
Milik	Nilai Khas
Struktur Kristal	Polikristalin fase β FCC, terutama berorientasi (111).
Kepadatan lapisan SiC	3,21 gram/cm³
Kekerasan lapisan SiC	Kekerasan Vickers 2500（beban 500g）
Ukuran Butir	2~10μm
Kemurnian Kimia	99,99995%
Kapasitas Panas	640J·kg^-1·K^-1
Suhu Sublimasi	2700℃
Kekuatan Lentur	415 MPa RT 4 titik
Modulus Muda	tikungan 430 Gpa 4pt, 1300℃
Konduktivitas Termal	300W·m^-1·K^-1
Ekspansi Termal (CTE)	4,5×10^-6K^-1