Penyekat Lapisan SiC CVD

CVD SiC Coating Baffle dari Vetek Semiconductor terutama digunakan dalam Si Epitaxy. Biasanya digunakan dengan barel ekstensi silikon. Ini menggabungkan suhu tinggi yang unik dan stabilitas CVD SiC Coating Baffle, yang sangat meningkatkan distribusi aliran udara yang seragam dalam manufaktur semikonduktor. Kami percaya bahwa produk kami dapat memberikan Anda Teknologi Canggih dan Solusi Produk Berkualitas Tinggi.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Sebagai produsen profesional, kami ingin memberikan Anda kualitas tinggiPenyekat Lapisan SiC CVD.

Melalui proses berkelanjutan dan pengembangan inovasi material,Semikonduktor Vetek'SPenyekat Lapisan SiC CVDmemiliki karakteristik unik berupa stabilitas suhu tinggi, ketahanan korosi, kekerasan tinggi dan ketahanan aus. Karakteristik unik ini menentukan bahwa CVD SiC Coating Baffle memainkan peran penting dalam proses epitaksi, dan perannya terutama mencakup aspek-aspek berikut:

Distribusi aliran udara yang seragam: Desain cerdik dari CVD SiC Coating Baffle dapat mencapai distribusi aliran udara yang seragam selama proses epitaksi. Aliran udara yang seragam sangat penting untuk pertumbuhan yang seragam dan peningkatan kualitas bahan. Produk ini dapat secara efektif memandu aliran udara, menghindari aliran udara lokal yang berlebihan atau lemah, dan memastikan keseragaman bahan epitaksi.

Kontrol proses epitaksi: Posisi dan desain CVD SiC Coating Baffle dapat mengontrol arah aliran dan kecepatan aliran udara selama proses epitaksi secara akurat. Dengan menyesuaikan tata letak dan bentuknya, kontrol aliran udara yang tepat dapat dicapai, sehingga mengoptimalkan kondisi epitaksi serta meningkatkan hasil dan kualitas epitaksi.

Mengurangi kerugian materi: Pengaturan CVD SiC Coating Baffle yang wajar dapat mengurangi kehilangan material selama proses epitaksi. Distribusi aliran udara yang seragam dapat mengurangi tekanan termal yang disebabkan oleh pemanasan yang tidak merata, mengurangi risiko kerusakan dan kerusakan material, dan memperpanjang masa pakai material epitaksi.

Meningkatkan efisiensi epitaksi: Desain CVD SiC Coating Baffle dapat mengoptimalkan efisiensi transmisi aliran udara serta meningkatkan efisiensi dan stabilitas proses epitaksi. Melalui penggunaan produk ini, fungsi peralatan epitaxial dapat dimaksimalkan, efisiensi produksi dapat ditingkatkan dan konsumsi energi dapat dikurangi.

Sifat fisik dasar dariPenyekat Lapisan SiC CVD：