Deposisi Uap Fisik

Deposisi Uap Fisika (PVD) semikonduktor Vetek adalah teknologi proses canggih yang banyak digunakan dalam perawatan permukaan dan persiapan film tipis. Teknologi PVD menggunakan metode fisik untuk secara langsung mengubah material dari padat atau cair menjadi gas dan membentuk lapisan tipis pada permukaan substrat target. Teknologi ini memiliki keunggulan presisi tinggi, keseragaman tinggi, dan daya rekat yang kuat, serta banyak digunakan pada semikonduktor, perangkat optik, pelapis perkakas, dan pelapis dekoratif. Selamat datang untuk berdiskusi dengan kami!

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Vetek Semiconductor adalah pabrikan China yang memasok bahan semikonduktor canggih seperti Proses Deposisi Uap Fisikwadah berlapis SiC, wadah karbon kaca,Pemanas grafit pelapis SiC, Wadah Penguapan Pistol Berkas Elektron.

Prinsip dasar proses PVD

Proses Deposisi Uap Fisik biasanya mencakup berbagai metode khusus seperti penguapan, sputtering, dan pelapisan ion. Terlepas dari metode yang digunakan, prinsip dasar Deposisi Uap Fisik adalah menguapkan material dari sumbernya melalui pemanasan suhu tinggi atau pemboman ion. Bahan yang menguap tersebut bergerak dalam bentuk atom atau molekul dalam lingkungan vakum atau bertekanan rendah dan mengembun menjadi lapisan tipis pada permukaan substrat. Proses ini terutama dicapai dengan cara fisik, sehingga menghindari pengaruh reaksi kimia terhadap kemurnian bahan.

Keunggulan teknologi Deposisi Uap Fisik

Kemurnian tinggi dan kepadatan tinggi: Film yang diendapkan PVD biasanya memiliki kemurnian dan kepadatan tinggi, yang secara signifikan dapat meningkatkan kinerja lapisan, seperti ketahanan aus, ketahanan korosi, dan kekerasan.

Daya rekat film yang kuat: Proses PVD dapat membentuk film dengan daya rekat kuat pada substrat, memastikan film tidak mudah terkelupas saat digunakan, sehingga memperpanjang masa pakai produk.

Berbagai macam pilihan material: Teknologi PVD dapat diterapkan pada berbagai bahan, termasuk logam, keramik, dan paduan, serta dapat menyiapkan berbagai pelapis fungsional, seperti pelapis konduktif, isolasi, tahan panas, dan anti-oksidasi.

Perlindungan dan keberlanjutan lingkungan: Dibandingkan dengan proses seperti deposisi uap kimia (CVD), proses Deposisi Uap Fisik (PVD) lebih ramah lingkungan, tidak menghasilkan gas berbahaya, dan mengurangi polusi terhadap lingkungan.

Penerapan teknologi PVD

Industri semikonduktor: Dalam pembuatan semikonduktor, Deposisi Uap Fisik sering digunakan dalam pembuatan elektroda film tipis, penghalang difusi, dan interkoneksi logam untuk memastikan bahwa komponen memiliki konduktivitas dan stabilitas yang baik.

Perangkat optik: Teknologi Deposisi Uap Fisik banyak digunakan dalam pelapis optik, seperti pelapis anti-reflektif untuk cermin dan lensa, dan pembuatan filter optik untuk meningkatkan kinerja perangkat optik.