Wadah untuk Silikon Monokristalin

Wadah Semikonduktor Vetek untuk Silikon Monokristalin sangat penting untuk mencapai pertumbuhan kristal tunggal, landasan manufaktur perangkat semikonduktor. Crucible ini dirancang dengan cermat untuk memenuhi standar ketat industri semikonduktor, memastikan kinerja puncak dan efisiensi di semua aplikasi. Di Vetek Semiconductor, kami berdedikasi untuk memproduksi dan memasok cawan lebur berkinerja tinggi untuk pertumbuhan kristal yang menggabungkan kualitas dengan efisiensi biaya.

mengirimkan permintaan

Deskripsi Produk

Dalam metode CZ (Czochralski), kristal tunggal ditumbuhkan dengan menyatukan benih monokristalin dengan silikon polikristalin cair. Benih ditarik ke atas sedikit demi sedikit sambil diputar perlahan. Dalam proses ini, sejumlah besar bagian grafit digunakan, menjadikannya metode yang menggunakan komponen grafit dalam jumlah tertinggi dalam pembuatan semikonduktor silikon.

Gambar di bawah ini memberikan representasi skema tungku pembuatan kristal tunggal silikon berdasarkan metode CZ.

Wadah Vetek Semiconductor untuk Silikon Monokristalin menyediakan lingkungan yang stabil dan terkendali yang penting untuk pembentukan kristal semikonduktor secara tepat. Mereka berperan penting dalam menumbuhkan ingot silikon monokristalin menggunakan teknik canggih seperti proses Czochralski dan metode zona mengambang, yang sangat penting untuk memproduksi bahan berkualitas tinggi untuk perangkat elektronik.

Direkayasa untuk stabilitas termal yang luar biasa, ketahanan terhadap korosi kimia, dan ekspansi termal minimal, cawan lebur ini memastikan daya tahan dan kekokohan. Wadah tersebut dirancang untuk tahan terhadap lingkungan kimia yang keras tanpa mengorbankan integritas atau kinerja struktural, sehingga memperpanjang masa pakai wadah dan mempertahankan kinerja yang konsisten selama penggunaan jangka panjang.

Komposisi unik dari Vetek Semiconductor Crucibles untuk silikon monokristalin memungkinkannya bertahan dalam kondisi ekstrim pemrosesan suhu tinggi. Hal ini menjamin stabilitas dan kemurnian termal yang luar biasa, yang sangat penting untuk pemrosesan semikonduktor. Komposisi ini juga memfasilitasi perpindahan panas yang efisien, mendorong kristalisasi yang seragam dan meminimalkan gradien termal dalam lelehan silikon.

Keuntungan dari Susceptor Lapisan SiC kami:

Perlindungan Bahan Dasar: Lapisan CVD SiC bertindak sebagai lapisan pelindung selama proses epitaksi, secara efektif melindungi bahan dasar dari erosi dan kerusakan yang disebabkan oleh lingkungan luar. Tindakan perlindungan ini sangat memperpanjang masa pakai peralatan.

Konduktivitas Termal yang Sangat Baik: Lapisan CVD SiC kami memiliki konduktivitas termal yang luar biasa, secara efisien mentransfer panas dari bahan dasar ke permukaan lapisan. Hal ini meningkatkan efisiensi manajemen termal selama epitaksi, memastikan suhu pengoperasian peralatan yang optimal.

Peningkatan Kualitas Film: Lapisan CVD SiC memberikan permukaan yang rata dan seragam, menciptakan fondasi ideal untuk pertumbuhan film. Ini mengurangi cacat akibat ketidakcocokan kisi, meningkatkan kristalinitas dan kualitas film epitaksi, dan pada akhirnya meningkatkan kinerja dan keandalannya.

Pilih Susceptor Lapisan SiC kami untuk kebutuhan produksi wafer epitaksi Anda, dan manfaatkan perlindungan yang ditingkatkan, konduktivitas termal yang unggul, dan peningkatan kualitas film. Percayai solusi inovatif VeTek Semiconductor untuk mendorong kesuksesan Anda di industri semikonduktor.